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分子束外延沉積速率監測/控制系統
Hiden’s XBS system provides in-situ monitoring of multiple sources with real-time signal output for precise control of the deposition.


XBS三級濾過四極質譜(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System),適于精確的MBE分析,其他氣體分析和科學實驗使用。Windows? 界面的MASsoft軟件通過RS232、RS485 或以太網控制。

 

·離子源控制,用于軟離子化和表觀電勢質譜
·靈敏度增強用于大質量數的傳輸,自動質量數范圍列表

·一級過濾處增加射頻,抗污染物能力增強
·內置UHV 兼容的水冷卻罩

 

·靈敏度高,檢測范圍:  100% 5ppb

·質量數范圍:              0~ 510amu
·長期穩定性:              24h以上,峰高變化小于±0.5%)
·交叉離子源,束接收角同軸的橫斷面呈 ±35°
·2mm 束接受孔,也可為特殊使用者配置
·分子束研究中,檢測極限低至30 ions/s
·監測生長速率:       1? / min,或更低

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