DECRA 氣體分析質譜儀
QGA 定量氣體分析質譜儀
HPR-20 R&D 研究級在線氣體分析質譜儀
HPR-20 EGA 逸出氣體在線分析質譜儀
HPR-20 TMS 瞬變過程氣體分析質譜儀
HPR-40 MIMS 膜進樣質譜儀
HPR-60 常壓分子束取樣質譜儀
HPR-70 批量進樣氣體分析質譜儀
HPR-90密封氣體分析質譜儀
QIC BIOSTREAM 生物發酵多路氣體分析質譜儀
QGA 定量軟件
MASsoft專業軟件
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殘余氣體分析四極質譜儀
超高真空殘余氣體分析四極質譜儀
三級過濾高分辨四極質譜儀
分子束外延殘余氣體分析四極質譜儀
分子束外延沉積速率監測/控制系統
托卡馬克裝置殘余氣體分析質譜儀
快速反應質譜儀
IDP離子/分子分析質譜儀
EPIC離子/分子分析質譜儀
離子源
過程氣體分析質譜儀
EQP等離子體質量和能量分析質譜儀
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高級朗繆爾探針
等離子體刻蝕終點檢測儀
超高真空TPD工作站
二次離子質譜工作站
二次離子質譜探針
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激光分子束外延鍍膜系統
原子散亂表面分析儀器
MBR 氣體膜分離測試儀
ABR 競爭性氣體吸附分析儀
IGA-智能重量法吸附分析儀
水分吸附儀
高壓氣體吸附儀
磁懸浮天平高壓吸附儀
催化微反應器–質譜儀
QGA-定量氣體分析質譜儀
瞬變過程氣體分析質譜儀
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常壓分子束取樣質譜儀
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小型在線VOCs監測質譜儀 PTR-QMS 300
PTR QMS 500 質子轉移質譜儀
高靈敏型在線VOCs分析儀
高分辨率PTR TOF 1000
超高分辨率在線VOCs分析儀
PTR TOF 6000 質子傳遞反應質譜儀
可選擇性離子源
氣體自動定標校準系統
LCU-液態自動定標校準系統
BET-呼氣采樣系統
FastGC-快速氣相色譜
PTR-MS 多路進樣器
NASE-鼻腔采樣器
DEMS 電化學質譜儀
高壓導熱系數分析儀
導熱系數測試儀
高純氣體分析
PLD MBE激光分子束外延鍍膜系統的主體是一個UHV激光分子束外延裝置。使用準分子激光進行基底加熱;脈沖激光做為幅照源。使用兩個組合的掩膜和一個掃描式的反射高能電子衍射(RHEED)設備,系統能同時制備很多樣品(250個/10mm2)。每個樣品都是原子級的控制,可以設置不同的生長條件。在UHV中使用激光輻照的組合的掩模和靶材。 這個組合膜沉積的概念,是由于使用分離的基底、小區域的掩模和每個樣品不同的生長參數導致的沉積條件的系統變化。最顯著的貢獻就是可以快速地篩選生長條件。
·精準層蔽控制原子
·層外延膜結構或形態
·均勻或梯度的快速
·振蕩信號需依成膜條件和成膜品質
·專業LabView提供全自動制程數字控制
·9項日本專利、3個國際專利
·激光加熱: 溫度 >1000℃)
·高壓可操作: ~133Pa
·6種靶材的公轉和自轉
·鍍膜腔真空度: ~5e-9Torr
·Load-Lock腔: ~5e-7 Torr 可放置兩個樣品以及四個靶材
·全自動數字控制
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