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超高真空殘余氣體分析四極質譜儀

A Residual Gas Analyser configured for demanding UHV applications.

Measures the concentration of gases and vapours in real time.

英國Hiden公司的HAL 201 RC超高真空殘余氣體分析四極質譜儀專為檢測超高真空容器中的存在組分而設計,針對真空診斷進行精確的分析。

離子源為鍍金離子源,適合應用在總壓小于5 x 10-10mbar的領域,其系統與EPIC離子/分子分析質譜儀完全兼容。

 

 

            ·鍍金離子源,以減少離子源脫氣

            ·氧化物涂層雙銥絲的離子源

            ·雙法拉第/ Channeltron電子倍增器檢測器


 

·質量數范圍:   200,300 amu

·掃描速度:      100amu/s

·最小掃描步階:0.01amu

·靈敏度:         0.1 ppm1ppm

·穩定性:         24h以上,峰高變化小于±0.5%

·最小檢測分壓:5 x 10-14 mbar

·最大工作壓力:1 x 10-4 mbar

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