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分子束外延沉積速率監測/控制系統

A system for multiple source monitoring in MBE deposition applications.

For molecular beam analysis and deposition control.

 

XBS 分子束外延沉積速率監測/控制系統(MBE Deposition Rate Monitoring/Control System),適于精確的MBE分析,其他氣體分析和科學實驗使用。

XBS 分子束外延沉積速率監測/控制系統的高靈敏度和數據的快速采集,能夠提供生長速度低至0.01 ?/s的質譜信號。

 

·交叉離子源,束接收角同軸的橫斷面呈±35°

·離子源控制,用于軟離子化和表觀電勢質譜

·2mm束接受孔,以利特殊使用者操作

·一級過濾處增加射頻,抗污染物能力增強
·內置UHV兼容的水冷卻罩   
·通過RS232、USBEthernet連接計算機,MASsoft軟件控制

 

·質量數范圍:        1300 amu(標準配置)

                             500amu(選配)

·掃描速度:           100amu/s

·最小掃描步階:     0.01amu

·檢測濃度:           5ppb100%

·穩定性:              24h以上,峰高變化小于±0.5%

·最低監測極限:     30 ions/s
·監測生長速率:     1? / min,或更低

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