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EPIC離子/分子分析質譜儀

A system for UHV analysis of neutrals, radicals and ions.

Measures the ions, neutrals, and partial pressures in UHV/XHV.

EPIC離子/分子分析質譜儀(EPIC Systems with Pulse Ion Counting and Pole Bias Control)是帶脈沖離子計數和四級桿偏壓控制的三級過濾四極質譜儀,用于高精密科學分析,過程研究以及中性粒子、自由基、正負離子的UHV分析。

EPIC離子/分子分析質譜儀可增加能量過濾器、Bessel Box能量分析器或45°扇形能量分析器,升級至HidenPlasma/ SIMS系列EQP,EQS,PSM Maxim。

 

·6、9、12 mm 直徑的四極桿可選

·±100 eV離子能量分布,1000 eV可選

·離子源控制,以實現軟離子化及表觀電勢質譜

·脈沖離子計數器,連續7個數量級動態范圍,Faraday 選項為5x1010

·一級過濾處增加射頻,增強抗污染物能力

·信號選通分辨率0.1μs,用于能量、質量分布隨時間變化或TOF研究中

·程序升溫脫附時,溫度數值同步顯示

·標配UHV罩,液氮冷卻罩可選 

 ·MASsoft專業軟件控制

·可升級至Plasma/ SIMS 配置

 

·質量數范圍:      1300  amu(標準配置)

                           500、1000、2500 amu(選配)

·測量速度:         500 points/s

·分辨率:            0.1% Valley、1% Valley

·動態范圍:         107

·最低檢測分壓:   5 X 10-15 mbar ,1X10-16 mbar

·離子能量:         ±100eV(標準配置)

                           ±1000eV(選配)

·信號選通分辨率:0.1μs

·穩定性:            24h以上,峰高變化小于±0.5%

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